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晶圓光刻膠怎么去除干凈-深圳金徠
來源:
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作者:深圳金徠
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發布時間: 1558天前
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。光刻膠應該具有比較小的表面張力，使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。感光樹脂經光照后，在曝光區能很快地發生光固化反應，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發生明顯變化。
光刻膠通過曝光、顯影和刻蝕等方式在每一層結構面上形成所需要的圖案。在進行后一層處理時，需要將前一次使用后的光刻膠完全去除。
由預先定義好的圖形把不要的局域去除，保留要留下的區域，將圖形轉移到所選定的圖上的過程需要等離子處理。深圳金徠等離子去膠機可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除。
光刻膠傳統的去除方法：濕化方法去除晶圓表面的光刻膠存在反應不能控制，清洗不徹底，容易引入雜質等缺點。
作為干式方法的等離子清洗機可控性強，一致性好，用深圳金徠等離子去膠機不僅徹底去除光刻膠和其他有機物，而且活化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性。只需要通過等離子清洗設備的簡單處理，就能將自由基將高分子聚合物完全清除干凈，包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物，達到其他清理方式很難完成的效果。
